Epitaxial (vöxtur)Blandað Gas

Í hálfleiðaraiðnaðinum er gasið sem notað er til að rækta eitt eða fleiri lög af efni með efnafræðilegri gufuútfellingu á vandlega völdu undirlagi kallað epitaxial gas.

Algeng notkun á kísill-epitaxíal lofttegundum eru meðal annars díklórsílan, kísiltetraklóríð ogsílanAðallega notað til útfellingar á epitaxial kísill, útfellingar á kísilloxíðfilmu, útfellingar á kísillnítríðfilmu, útfellingar á ókristölluðum kísillfilmu fyrir sólarsellur og aðra ljósnema, o.s.frv. Epitaxia er ferli þar sem einkristallsefni er sett og ræktað á yfirborð undirlags.

Efnafræðileg gufuútfelling (CVD) blandað gas

CVD er aðferð til að setja ákveðin frumefni og efnasambönd út með efnahvörfum í gasfasa með því að nota rokgjörn efnasambönd, þ.e. filmumyndunaraðferð sem notar efnahvörf í gasfasa. Efnafræðileg gufuútfellingargasið (CVD) sem notað er er einnig mismunandi eftir gerð filmunnar.

LyfjamisnotkunBlandað gas

Við framleiðslu á hálfleiðurum og samþættum hringrásum eru ákveðin óhreinindi blandað í hálfleiðaraefni til að gefa efnunum þá leiðni sem krafist er og ákveðna viðnámsgetu til að framleiða viðnám, PN-tengingar, grafin lög o.s.frv. Gasið sem notað er í íblöndunarferlinu kallast íblöndunargas.

Inniheldur aðallega arsín, fosfín, fosfórtríflúoríð, fosfórpentaflúoríð, arsentríflúoríð, arsenpentaflúoríð,bórtríflúoríð, díboran o.s.frv.

Venjulega er efnisuppsprettan blandað saman við burðargas (eins og argon og köfnunarefni) í efnisuppsprettuskáp. Eftir blöndun er gasflæðið stöðugt sprautað inn í dreifiofninn og umlykur skífuna, setur efni á yfirborð skífunnar og hvarfast síðan við sílikon til að mynda efni sem flytjast inn í sílikonið.

EtsunGasblanda

Etsun felst í því að etsa burt vinnsluyfirborðið (eins og málmfilmu, kísilloxíðfilmu o.s.frv.) á undirlaginu án þess að nota ljósviðnámsgrímu, en varðveita svæðið með ljósviðnámsgrímu, til að fá fram nauðsynlegt myndmynstur á undirlagsyfirborðinu.

Etsunaraðferðir fela í sér blaut efnaetsun og þurr efnaetsun. Gasið sem notað er í þurr efnaetsun kallast etsgas.

Etsgas er venjulega flúorgas (halíð), eins ogkolefnistetraflúoríð, köfnunarefnistríflúoríð, tríflúormetan, hexaflúoretan, perflúorprópan o.s.frv.